GWDL-1600ZQLB雙開門真空氣氛爐，專為大型工件與批量材料的高溫處理設計。

整機外形200×110×180厘米，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實驗室與中試車間布局。

爐膛有效尺寸1500×500×600毫米，滿足大尺寸樣品處理需求。

設備單相功率32千瓦，3區(qū)獨立加熱，溫場更均勻。

36支硅鉬棒，最高使用溫度1600°C。

獨特兩支并聯(lián)連接：即使一支元件損壞，僅影響該組兩支，整爐不停運。

采用節(jié)能型無干擾加熱技術(shù)，無需可控硅和變壓器，對電網(wǎng)無諧波污染，特別適合高要求科研環(huán)境。

配備完整真空系統(tǒng)與進氣系統(tǒng)。

兩側(cè)下部共8個進氣口，集成至總管道，配合流量計閥門，實現(xiàn)精準氣氛控制。

同時搭載6P工業(yè)級冷水機，確保長時間高溫運行穩(wěn)定性。

溫度傳感器采用鉑銠B型熱電偶，共3支控溫，實時監(jiān)測爐內(nèi)溫場。

升溫速率1–10°C/min可調(diào)，爐溫均勻性±1°C，滿足高精度熱處理工藝。

內(nèi)層采用進口氧化鋯多晶纖維板（耐溫1800°C），外層耐火棉板不低于160mm，總保溫層超過500mm。

即使爐內(nèi)1600°C，外殼溫度夏季≤60°C、冬季≤50°C——安全且節(jié)能。

標配10寸觸摸屏，預設50段程序，支持遠程控制，多人手機同時監(jiān)控設備狀態(tài)、啟停爐、查看報表與升溫曲線。

GWDL-1600ZQLB——精準、穩(wěn)定、智能的高溫處理平臺。
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